Nanometer-thick ALD coating on micrometer-thick sputtered LiMn1.5Ni0.5O4 films: a strategy to stabilize the solid/liquid interface?

Maxime Hallot 1 Christophe Lethien 1 Pascal Roussel 2
1 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
2 UCCS - Unité de Catalyse et de Chimie du Solide - UMR 8181
Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées
https://hal.univ-lille.fr/hal-02330592
Contributeur : Lilloa Université de Lille <>
Soumis le : jeudi 24 octobre 2019 - 09:54:17
Dernière modification le : vendredi 25 octobre 2019 - 14:34:09

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  • HAL Id : hal-02330592, version 1

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Citation

Maxime Hallot, Christophe Lethien, Pascal Roussel. Nanometer-thick ALD coating on micrometer-thick sputtered LiMn1.5Ni0.5O4 films: a strategy to stabilize the solid/liquid interface?. Matériaux 2018, Nov 2018, Strasbourg, France. ⟨hal-02330592⟩

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