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Communication dans un congrès
Nanometer-thick ALD coating on micrometer-thick sputtered LiMn1.5Ni0.5O4 films: a strategy to stabilize the solid/liquid interface?
Maxime Hallot
1
Christophe Lethien
1, 2
Pascal Roussel
3
2
CSAM - IEMN - Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN
IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520, Institut TELECOM/TELECOM Lille1
Maxime Hallot 1
Auteur
Christophe Lethien 1, 2
Auteur IdHAL : christophe-lethien ORCID : https://orcid.org/0000-0001-8906-8308
Pascal Roussel 3
Auteur IdHAL : pascalroussel IdRef : https://www.idref.fr/131004263 ResearcherId : http://www.researcherid.com/rid/A-8578-2011 ORCID : https://orcid.org/0000-0001-7243-7293
1
IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520 (Laboratoire Central – Cité Scientifique – Avenue Poincaré – CS 60069 – 59652 VILLENEUVE D’ASCQ CEDEX - France)
- Ecole Centrale de Lille (Cité Scientifique - CS 20048 59651 Villeneuve d'Ascq Cedex - France)
- Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN) (France)
- UVHC - Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
- Université de Lille (Lille - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR8520 (France)
- UPHF - Université Polytechnique Hauts-de-France (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
2
CSAM - IEMN - Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN (Groupe CSAM - IEMN UMR8520 - - France)
- IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520 (Laboratoire Central – Cité Scientifique – Avenue Poincaré – CS 60069 – 59652 VILLENEUVE D’ASCQ CEDEX - France)
- Ecole Centrale de Lille (Cité Scientifique - CS 20048 59651 Villeneuve d'Ascq Cedex - France)
- Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN) (France)
- UVHC - Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
- Université de Lille (Lille - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR8520 (France)
- UPHF - Université Polytechnique Hauts-de-France (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
- Institut TELECOM/TELECOM Lille1 (France)
- IMT - Institut Mines-Télécom [Paris] (37-39 Rue Dareau, 75014 Paris - France)
3
UCCS - Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 (Cité Scientifique - Bâtiment C3 - 59655 Villeneuve d'Ascq Cedex - France)
- CLIL - Centrale Lille Institut (Cité scientifique CS 20048 59651 Villeneuve d'Ascq cedex - France)
- UA - Université d'Artois : UMR8181 (9 rue du Temple - BP 10665 - 62030 Arras cedex - France)
- Ecole Centrale de Lille : UMR8181 (Cité Scientifique - CS 20048 59651 Villeneuve d'Ascq Cedex - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR8181 (France)
- Université de Lille : UMR8181 (Lille - France)
Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
Liste complète des métadonnées
https://hal.univ-lille.fr/hal-02330592
Contributeur : Lilloa Université de Lille Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : jeudi 24 octobre 2019 - 09:54:17
Dernière modification le : mardi 12 octobre 2021 - 14:58:06
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Identifiants
- HAL Id : hal-02330592, version 1
Collections
UNIV-LILLE | UCCS | CNRS | UNIV-VALENCIENNES | INC-CNRS | IEMN | IMT-LILLE-DOUAI | INSTITUT-TELECOM | IMT-NORD-EUROPE | UNIV-ARTOIS
Citation
Maxime Hallot, Christophe Lethien, Pascal Roussel. Nanometer-thick ALD coating on micrometer-thick sputtered LiMn1.5Ni0.5O4 films: a strategy to stabilize the solid/liquid interface?. Matériaux 2018, Nov 2018, Strasbourg, France. ⟨hal-02330592⟩
Métriques
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