Asymmetric VN // RuN micro-supercapacitors based on sputtered metal nitride films - Université de Lille Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Asymmetric VN // RuN micro-supercapacitors based on sputtered metal nitride films

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https://hal.univ-lille.fr/hal-04304357

Soumis le : vendredi 24 novembre 2023-10:24:09

Dernière modification le : samedi 27 avril 2024-12:13:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04304357 , version 1 (24-11-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04304357 , version 1

Citer

Khac-Huy Dinh, Kevin Robert, Florent Blanchard, Marielle Huvé, Pascal Roussel, et al.. Asymmetric VN // RuN micro-supercapacitors based on sputtered metal nitride films. European Materials Research Society Spring meeting (EMRS 2022), May 2022, Visioconférence, France. ⟨hal-04304357⟩

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