Effect of cold plasma process parameters for organosilicon deposition on corrosion protection performance - Université de Lille
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Effect of cold plasma process parameters for organosilicon deposition on corrosion protection performance

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04474266 , version 1 (23-02-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04474266 , version 1

Citer

Charafeddine Jama. Effect of cold plasma process parameters for organosilicon deposition on corrosion protection performance. Smart coatings ans Surfaces, Oct 2023, Al Bufeira, Portugal. ⟨hal-04474266⟩
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